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M-2000®アプリケーション  
 

M-2000がもつスピード、正確さ、そして広い測定波長範囲がさまざまなアプリケーションの測定に最適
です。エリプソメトリーの主要な用途は膜厚と光学定数を求めることですが、M-2000はその両方で卓越しており、サブナノメートルから数十ミクロンの膜厚、そして透明物質から吸収物質までの光学特性を測定することができます。
この装置はとてもフレキシブルな計測装置で、誘電体・有機物・半導体・金属など、どんなタイプの薄膜でも評価することができます。また、広い波長範囲と可変入射角によってM-2000は多くの多層構造を明らかにすることが可能となりました。


フラットパネルディスプレイ
M-2000は薄膜の均一性評価に広く使用されています。ディスプレイ産業では、ITOのような透明導電性
酸化膜・アモルファスシリコン・微結晶シリコン・酸化膜・窒化膜、そしてフォトレジストの測定によって製品の最終的な品質が保たれています。

(下図)レジスト塗布されたパネルの膜厚測定結果とプロセス中の問題によって生じた、表面ダメージの
     測定結果です。


材料研究

様々な材料研究において、M-2000は多くの産業や研究者たちに役立っています。太陽電池産業では、
プロセス中でのIn-Situ測定や、表面の荒れている多結晶基板上でのコーティングの均一性測定でもまた、M-2000の高い光処理能力が活躍しています。

(下図左)表面が荒れてる太陽電池セルから得られたSiNxの光学定数を表しています。
(下図右)M-2000で測定されたカラーフィルターの光学定数を表しています。

In-Situ-実時間測定
M-2000は In-Situモニタリング とプロセス制御に理想的な装置であり、リアルタイムな結果を得ることを
必要とする、多くのプロセスにおいて非常に役立ちます。


  • MBE
  • MOCVD
  • Liquid Cell
  • Sputter
  • PECVD
  • Heat Stages
  • ALD
  • Plasma etch
  • Cryostat
  • E-beam evaporators
  • ECR

 

 

 

 

 

 
   

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