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in-situ用のエリプソメーター 
 
 
 
M-2000®
in-situ用分光エリプソメーターは、成膜やエッチングのプロセスでリアルタイムのモニタリングや制御に
役立つ技術です。一般的なプロセスモニタリングとして以下の例があります。


  • E-beam 蒸発
  • MBE
  • CVD と PVD
  • アニーリング
  • エッチング (RIE, ECR)
  • 電気化学
  • スパッタリング

エッチングチャンバーのM-2000
 

スパッタチャンバー
M-2000 は、in-situや面内分布測定には理想的な装置です。
この装置の主な特徴は、VASE®とほぼ同じ波長領域を高速で
測定できることにあります。

回転補償子型 の光学構成は一般的な回転検光子型の光学
構成に対して以下のような優位点があります

  • 入射角の影響が少なくチャンバーに取付けやすい
  • ウインドウの複屈折効果をキャリブレーションしやすい
  • DCオフセットの必要が無い

電気化学用の溶液セル

EMCOREの反応炉
 
J. A. Woollam社のEASEソフトウェアは様々なプロセスのリアルタイムモニタリングを可能にします。
 
正確な膜厚制御
 
化合物半導体の混晶比制御
 
 
 
 
 
   

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